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Cibles en nitrure de tungstène

Les couches de tungstène font partie intégrante des transistors à couches minces des écrans TFT-LCD. Ils sont utilisés lorsque de grands formats d'écran, une netteté d'image particulièrement élevée et un contraste optimisé sont requis. Les cibles en tungstène sont également utilisées en microélectronique, par exemple pour créer des couches dans des filtres de fréquence...

Description

Les couches de tungstène font partie intégrante des transistors à couches minces des écrans TFT-LCD. Ils sont utilisés lorsque de grands formats d'écran, une netteté d'image particulièrement élevée et un contraste optimisé sont requis. Les cibles en tungstène sont également utilisées en microélectronique, par exemple pour créer des couches dans des filtres de fréquence (filtres SAW/ondes acoustiques de surface, BAW/filtres ondes acoustiques corporelles).

Description des produits

 

Tungsten Nitride  Targets

Spécifications de la poudre/cibles de nitrure de tungstène (WN et WN2)

Poids moléculaire (g/mol.)

197.847

Densité (g/cm3)

17.8

Nom UICPA

azanylidynetungstène

Masse exacte

197.954007

Point de fusion (degré)

 

Point d'ébullition (degré)

 

Surface polaire topologique

23.8

Nombre d'atomes lourds

2

Complexité

10

RN

12058-38-7

Structure en cristal

Cubique

Couleur

Gris

D'autres applications pour les cibles en tungstène incluent les couches barrières de diffusion en nitrure de tungstène, les pistes conductrices dans les composants microélectroniques et les couches transparentes de pulvérisation réactive en oxyde de tungstène pour les écrans OLED et l'électrochimie.

 

Nos cibles répondent aux exigences de pureté les plus strictes. Le principal avantage : une excellente conductivité électrique du revêtement et une formation minimale de particules pendant le processus PVD. Les impuretés métalliques et non métalliques présentes dans la cible de pulvérisation sont transférées vers les couches fonctionnelles pulvérisées, affectant ainsi leur fonction ou provoquant la formation de particules pendant le processus PVD (appelé effet d'arc). Nous garantissons que la pureté de nos cibles en tungstène est d'au moins 99,97 %. La pureté typique de nos cibles en tungstène est encore plus élevée, à 99,99 %. Nous garantissons ainsi que les couches que nous produisons répondent aux exigences strictes, notamment pour les applications dans le domaine de la microélectronique.

 

à propos de nous

 

Tungsten Nitride  Targets

Créée en 2008, l'entreprise s'est développée au fil des années pour devenir l'un des principaux fabricants et fournisseurs de produits métalliques destinés à un large éventail d'industries. L'entreprise investit continuellement dans la recherche et le développement pour améliorer la qualité et la durabilité de ses produits. L'entreprise accorde une grande importance à la satisfaction de ses clients et est connue pour fournir des produits de haute qualité et un excellent service client. Aujourd'hui, l'entreprise a une présence mondiale et sert des clients dans les pays du monde entier.

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