Applications du matériau métallique tantale

Mar 07, 2024

Tantalum TungstenTantalum TungstenTantalum Tungsten

 

 

Le matériau cible en tantale est généralement appelé cible nue. Tout d'abord, il sera soudé avec une cible de support en cuivre, puis par pulvérisation semi-conductrice ou optique, des atomes de tantale seront déposés sur le matériau du substrat avec formation d'oxyde pour réaliser un revêtement par pulvérisation cathodique ; dans l'industrie des semi-conducteurs, à l'heure actuelle, l'utilisation principale du tantale métallique (Ta) via le revêtement par dépôt physique en phase vapeur (PVD) et la formation d'une couche barrière comme matériau cible. Comme nous le savons tous, bien que les performances du métal de tantale soient relativement stables, la taille des particules plus fines de la poudre de métal de tantale est plus active et réagit avec l'oxygène, l'azote, etc. à température ambiante, de sorte que l'oxygène, l'azote et d'autres impuretés dans la poudre de tantale, la teneur en poudre augmente. Afin d'obtenir des cibles de tantale de haute qualité, il est nécessaire d'abord de réduire la teneur en impuretés de la poudre de tantale et d'améliorer la pureté de la poudre de tantale. La réduction de la taille des particules de poudre de tantale est nécessaire pour améliorer la qualité de la poudre de tantale et des cibles de tantale. Les cibles en tantale sont principalement utilisées dans le revêtement de semi-conducteurs, le revêtement optique, la décoration, les écrans plats, le revêtement fonctionnel et d'autres industries de l'espace de stockage d'informations optiques, les industries de revêtement de verre telles que le verre automobile et le verre architectural, et les communications optiques. Les semi-conducteurs utilisent le processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD) pour « pulvériser » des cibles de pulvérisation de tantale sur des substrats semi-conducteurs afin de former des barrières de diffusion en couches minces pour protéger les interconnexions en cuivre. Les cibles de pulvérisation au tantale sont également utilisées dans divers autres produits, notamment les supports de stockage magnétiques, les têtes d'imprimante à jet d'encre et les écrans plats. Le point de fusion élevé et la résistance à la corrosion des aubes de turbine de moteur les rendent idéales pour les applications d'alliage. Le tantale est utilisé dans les alliages haute température à base de nickel, les principales applications étant les aubes de turbine pour les moteurs d'avion et les turbines à gaz terrestres. Les équipements de traitement chimique présentent une résistance extrêmement élevée à la corrosion et aux températures élevées, ce qui fait du métal un matériau de construction idéal pour le revêtement des cuves, des tuyaux, des vannes et des échangeurs de chaleur dans les industries chimiques et pharmaceutiques.

 

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